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单项选择题
硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。
A.钠
B.钾
C.氢
D.硼 -
单项选择题
二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。
A.降低
B.增加
C.不变
D.先降低后增加 -
单项选择题
表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。
A.分凝度
B.固溶度
C.分凝系数
D.扩散系数
