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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

单项选择题

干氧氧化法有一些优点,但同时它的缺点有()。

    A.生长出的二氧化硅中引入很多可动离子
    B.氧化的速度慢
    C.生长的二氧化硅缺陷多
    D.生长的二氧化硅薄膜钝化效果差

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