多项选择题
涂胶之前，要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行，下列操作正确的是（）。
A.进行去水烘烤以保证晶片干燥
B.在晶片表面涂上增粘剂以保证晶片黏附性好
C.刚刚处理好的晶片应立即涂胶
D.贮存的晶片在涂胶前必须再次清洗及干燥
E.也可以直接使用贮存的晶片
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单项选择题
光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。
A.150－200℃
B.200℃左右
C.250℃左右
D.300℃左右 -
多项选择题
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
A.CA光刻胶对深紫外光吸收小
B.CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
C.CA光刻胶在显影液中的可溶性强
D.有较高的光敏度
E.有较高的对比度 -
单项选择题
在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
A.DQN
B.CA
C.ARC
D.PMMA
