问答题
简答题
离子注入后进行退火工艺的原因是什么？
【参考答案】
可使裸露的硅片表面生长一层新的阻挡氧化层；高温使得杂质向硅中移动；可使注入引入的损伤得到修复；使杂质原子与硅原子间的共价......
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