问答题
什么是干法刻蚀？什么是湿法刻蚀？比较二者的优缺点。
1）干法腐蚀是应用等离子技术的腐蚀方法，刻蚀气体在反应器中等离子化，与被刻蚀材料反应（或溅射），生成物是气态物质，从反应......
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问答题 光刻的本质是什么？
问答题 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？
问答题 什么是负性光刻？正性光刻？
