多项选择题 在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。

多项选择题 在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的，存在一些空隙，则（）。

多项选择题 在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。