单项选择题
化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是()。
A.锡 B.硼 C.磷 D.锰
单项选择题 半导体硅常用的施主杂质是()。
单项选择题 在将清洗完的硅片放进扩散炉扩散时,需要将硅片先装入(),然后再装入扩散炉。
单项选择题 通常热扩散分为两个大步骤,其中第一个步骤是()。