问答题
什么是CVD中的气缺现象？解决气缺现象的措施？
1）气缺现象：一个入气口的反应室，沿气流方向反应剂不断消耗，浓度降低，因此膜厚不均。当气体反应剂被消耗而出现的反应剂浓度......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 简述台阶覆盖与接触孔口。
问答题 热蒸发制备薄膜的过程有哪些？
问答题 气体直流辉光放电分为哪几个区？其中辉光放电区包括哪几个区？溅射区域选择在哪个区？
