欢迎来到PP题库网 PP题库官网
logo
全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

单项选择题

表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度,习惯上常用()。

    A.分凝度
    B.固溶度
    C.分凝系数
    D.扩散系数

点击查看答案

相关考题

微信小程序免费搜题
微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题